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        化合物半導(dǎo)體SiC、GaN晶圓檢查裝置

        簡(jiǎn)要描述:LODAS™ – CI8是列真株式會(huì)社推出的一款化合物半導(dǎo)體SiC、GaN晶圓檢查裝置。

        • 產(chǎn)品型號(hào):CI8
        • 廠商性質(zhì):代理商
        • 產(chǎn)品資料:
        • 更新時(shí)間:2024-11-09
        • 訪  問  量: 3494

        詳細(xì)介紹

        列真株式會(huì)社自創(chuàng)業(yè)以來,秉承“挑戰(zhàn)"、“創(chuàng)造"、“誠(chéng)實(shí)"的經(jīng)營(yíng)理念,為顧客提供可靠、可信的產(chǎn)品和服務(wù)。運(yùn)用激光掃描技術(shù),專門制造、銷售半導(dǎo)體材料表面及內(nèi)部檢查、石英玻璃表面檢查等檢查裝置。其激光檢測(cè)技術(shù)可同時(shí)收集激光的反射光,透射光以及共聚焦,可一次性檢查第三代半導(dǎo)體SIC等材料表面,背面和內(nèi)部的缺陷,可探測(cè)最小缺陷為100納米,主要用于半導(dǎo)體光罩、LCD大型光罩的石英玻璃表面、內(nèi)部、背面的缺陷檢查。

         

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        特征:

        • SiC單晶晶圓和EPI晶圓都可以檢查。

        • 不僅是表面缺陷,內(nèi)部缺陷和背面缺陷也同時(shí)檢查。

        • 有助于缺陷分析的4種Review圖像。

        • “AI Classify”進(jìn)行缺陷分類、好壞判定。

        • 免維護(hù)。

        • 世界FIRST用反射散射光、透射散射光、共聚焦光的混合檢查裝置。

        • 能檢出至今為止檢查不出的缺陷。

        •  

        規(guī)格:

        檢查激光 405nm 200mW
        檢查時(shí)間 200sec(尺寸:4英寸)
        檢查對(duì)象 2英寸、3英寸、4英寸、6英寸
        設(shè)備尺寸 WxDxH=450x500x730mm
        使用電源 AC100V~200V 10A

         


        應(yīng)用:

        SiC、GaN

        半導(dǎo)體光罩(石英玻璃與涂層)

        石英Wafer   Si Wafer

        HDD Disk LT Wafer

        藍(lán)寶石襯底

        EUV光罩

        光罩防塵膜

         

         

        可全面檢測(cè)表面、內(nèi)部、背面的缺陷。

        檢出缺陷:顆粒、劃痕、結(jié)晶缺陷。

        外延缺陷                         襯底缺陷

        胡蘿卜型缺陷                  六方空洞缺陷

        慧星缺陷                         層錯(cuò)缺陷

        三角缺陷                         微管缺陷

        邊緣缺陷

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